Macchina sputtering PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD

La sputtering GAVA 500 CAPVD PVD è stata costruita nel 2022 in Polonia. Questo sistema estremamente avanzato dal punto di vista tecnico è progettato per rivestire, tra l'altro, utensili da taglio, stampi e punzoni con rivestimenti super durevoli e ad alta resistenza all'abrasione e agli agenti chimici. Il metodo CAPVD (Cathodic Arc Physical Vapour Deposition) utilizzato, rispetto ai metodi PVD standard, consente di produrre rivestimenti altamente densi e aderenti con buone velocità di deposizione e spessori (± 5 nm).

Nel processo, gli atomi provenienti da una sorgente (catodo) posta nella camera di lavoro vengono vaporizzati utilizzando un arco elettrico. Questi atomi si trasferiscono e si depositano sulla superficie dei pezzi, creando un rivestimento sottile. La sputtering GAVA 500 PVD è dotata di tutti i componenti necessari delle migliori specifiche tecniche e soddisfa i più elevati standard del settore.

Specifiche tecniche della sputtering GALACTIC GAVA 500 CAPVD PVD
- Controllore PLC: MITSUBISHI A1S1
- tipi di rivestimento: TiN, TiCN, TiAlN, TiAlNEX, CrN, ZrN, CrAlN, TiSiAlN, AlCrN, ZrO, CrCO
- Dimensioni della camera a vuoto (Ø x H): ⌀600 x 600 mm
- Peso massimo del pezzo: 500 kg
- Vuoto massimo: 5x 6-10 mbar
- Evaporatore CAPVD (2 M5951405 pz.)
- Pompa per radici: M5951405 LEYBOLD 501 S (2 pz.)
- Capacità pompa radici: 4040 m3/h
- Pressione pompa radici: 3-10 mbar
- pompa turbomolecolare: LEYBOLD MAGiNTEGRA
- Capacità pompa turbomolecolare: 2000 l/s
- Pressione della pompa turbomolecolare: 6-10 mbar
-compressore
- dispositivo di raffreddamento (chiller)
- Impugnature satellitari (18 pz.)
- distribuzione dei gas di processo: flussimetri massici con sensori
- controllo della temperatura: termocoppia di tipo K
- alimentazione della macchina GALACTIC GAVA 500 CAPVD: 3x 400 V; 50 Hz
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